[发明专利]防反射膜及其制造方法有效
| 申请号： | 201480006527.3 | 申请日： | 2014-01-27 |
| 公开（公告）号： | CN104969094B | 公开（公告）日： | 2017-11-17 |
| 发明（设计）人： | 岸敦史;上野友德;仓本浩贵 | 申请（专利权）人： | 日东电工株式会社 |
| 主分类号： | G02B1/113 | 分类号： | G02B1/113;B32B7/02 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司72002 | 代理人： | 白丽 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种在宽带域中具有优异的反射特性(低反射性)且不仅来自正面方向而且来自斜方向的入射光的反射色相也无着色的防反射膜。本发明的防反射膜具有基材和自基材侧起依次具有的中折射率层、高折射率层及低折射率层。在本发明中，在使用波长580nm下的振幅反射率图的复数平面进行防反射膜的反射特性的光学设计时，按照使连结高折射率层的层叠轨迹的起点A与终点B的线段AB与振幅反射率图的实轴交叉的方式，对基材、中折射率层、高折射率层及低折射率层的折射率及/或厚度进行设计。 | ||
| 搜索关键词： | 反射 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种防反射膜，其是具有基材和自所述基材侧起依次具有的中折射率层、高折射率层及低折射率层的防反射膜，其中，在使用波长580nm下的振幅反射率图的复数平面进行所述防反射膜的反射特性的光学设计时，按照使连结所述高折射率层的层叠轨迹的起点A与终点B的线段AB与所述振幅反射率图的实轴交叉、且所述线段AB与所述实轴所成的角度θ成为65°≤θ≤90°的方式，对所述基材、所述中折射率层、所述高折射率层及所述低折射率层的折射率及/或厚度进行设计。
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