[发明专利]试样保持件以及使用了该试样保持件的等离子体蚀刻装置有效
| 申请号： | 201480006547.0 | 申请日： | 2014-01-30 |
| 公开（公告）号： | CN104956474B | 公开（公告）日： | 2017-11-24 |
| 发明（设计）人： | 口町和一 | 申请（专利权）人： | 京瓷株式会社 |
| 主分类号： | H01L21/683 | 分类号： | H01L21/683;C04B41/88 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司11021 | 代理人： | 吴秋明 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 试样保持件具备基体，其由陶瓷构成，并在一个主面具有试样保持面，和发热电阻体，其设置于该基体的另一个主面，并包含玻璃成分，所述基体在所述发热电阻体的附近区域包含所述玻璃成分。 | ||
| 搜索关键词： | 试样 保持 以及 使用 等离子体 蚀刻 装置 | ||
【主权项】：
一种试样保持件，其具备：基体，其由陶瓷构成，并在一个主面具有试样保持面；和发热电阻体，其设置于该基体的另一个主面，并包含玻璃成分，所述基体在所述发热电阻体的附近区域包含所述玻璃成分，从所述基体的所述另一个主面中所述发热电阻体所相接的部分来看，与相对于所述基体的所述另一个主面垂直的方向相比，所述玻璃成分在相对于所述基体的所述另一个主面水平的方向上更大地扩展。
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