[发明专利]阻挡层形成用组合物、带有阻挡层的半导体基板、太阳能电池用基板的制造方法以及太阳能电池元件的制造方法

摘要

一种阻挡层形成用组合物，其含有：选自通式1：(R¹)_4-nSi(OR²)_n所示的至少一种烷氧基硅烷、聚硅氮烷、以及使所述烷氧基硅烷水解并缩聚而成的硅氧烷树脂中的至少一种含硅化合物；有机粘合剂；和分散介质，所述组合物在25℃下的粘度为1Pa·s～100Pa·s。式中，R¹及R²各自独立地表示碳数1～6的脂肪族烃基或芳香族烃基，n表示1～4中任一个整数。在包含2个以上R¹或R²的情况下，各R¹或各R²可以相同也可以不同。

主权项

一种阻挡层形成用组合物，其含有：选自下述通式1所示的至少一种烷氧基硅烷、聚硅氮烷、以及使所述烷氧基硅烷水解并缩聚而成的硅氧烷树脂中的至少一种含硅化合物；有机粘合剂；和分散介质，所述组合物在25℃下的粘度为1Pa·s～100Pa·s，(R¹)_4‑nSi(OR²)_n···通式1通式1中，R¹及R²各自独立地表示碳数1～6的脂肪族烃基或芳香族烃基，n表示1～4中任一个整数，在包含2个以上R¹或R²的情况下，各R¹或各R²可以相同也可以不同。