[发明专利]热氧化器再生器的改进的块通道几何形状和布置有效

专利信息
申请号: 201480008079.0 申请日: 2014-08-28
公开(公告)号: CN104995475B 公开(公告)日: 2018-10-12
发明(设计)人: D·韦德霍尔姆 申请(专利权)人: 杜尔系统公司
主分类号: F28D17/02 分类号: F28D17/02;F28D17/04
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 王小东
地址: 美国密*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 本公开的设备涉及热氧化器再生器的改进的块通道几何形状和布置。一个所描述的示例设备包括转换器的块,所述块具有限定内壁的多个通道,所述多个通道在所述块的横截面视图中限定了蜂窝图案。所述图案包括由靠近所述块的内部的至少一个中央通道和多个周围通道组成的规则的子图案,所述多个周围通道延伸穿过所述块的深度,以允许流体从中流过,其中靠近所述块的内部的每个中央通道由五到十二个周围通道环绕,每个周围通道到其各自的中央通道的中心是基本等距的,所述中央通道的液压直径与通道之间的内壁厚度的比率大约等于从0.58到19.48的范围内的值。
搜索关键词: 氧化 再生 改进 通道 几何 形状 布置
【主权项】:
1.一种用于热氧化器的设备,所述设备包括:转换器的块,所述块具有限定内壁的多个通道,所述多个通道在所述块的横截面视图中限定出蜂窝图案,从而所述蜂窝图案包括由至少一个中央通道和多个周围通道组成的规则的子图案,所述多个周围通道贯穿所述块的深度延伸,以允许流体从中流过,其中靠近所述块的内部的每个中央通道由五到十二个周围通道环绕,每个周围通道到其各自的中央通道的中心是基本等距的,所述中央通道的液压直径与所述中央通道和相应的所述周围通道之间的内壁厚度的比率等于从0.58到19.48的范围内的值,其中,所述内壁具有锥形边缘,所述锥形边缘靠近所述块的一个或多个端部,以减小初始粒子生长。
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