[发明专利]基板的压差夹持的装置与方法在审

专利信息
申请号: 201480008730.4 申请日: 2014-02-20
公开(公告)号: CN105121697A 公开(公告)日: 2015-12-02
发明(设计)人: J·约德伏斯基;K·格里芬;K·甘加基德加 申请(专利权)人: 应用材料公司
主分类号: C23C16/44 分类号: C23C16/44;C23C16/458
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 黄嵩泉
地址: 美国加利*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 兹描述用于处理半导体晶圆,使晶圆于处理期间仍保持在适当位置的装置和方法。晶圆受到顶表面与底表面间的压差作用,因而有足够的力防止晶圆于处理时移动。
搜索关键词: 夹持 装置 方法
【主权项】:
一种处理腔室,包含:至少一气体分配组件;及基座组件,所述基座组件设在所述至少一气体分配组件下方,所述基座组件包括顶表面、底表面和位于所述顶表面的用以支撑晶圆的边缘的至少一凹部,所述至少一凹部具有至少一通道,所述至少一通道形成所述凹部与所述底表面间的流体连通。
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