[发明专利]拒水膜形成用组合物及其使用

摘要

本发明提供一种可形成耐化学品性以及耐光性优异的拒水膜的拒水膜形成用组合物，以及使用该拒水膜形成用组合物形成的拒水膜，在基体上的至少一部分具备该拒水膜的带拒水膜基体以及包括该带拒水膜基体的运输器械用物品。本发明涉及含有(A)式(1)所表示的化合物及/或其部分水解缩合物、和(B)式(2)所表示的且数均分子量2600以上的化合物及/或其部分水解缩合物，或含有上述(A)成分和上述(B)成分的部分水解共缩合物的拒水膜形成用组合物、使用该拒水膜形成用组合物形成的拒水膜、在基体上的至少一部分具备该拒水膜的带拒水膜基体以及包括该带拒水膜基体的运输器械用物品。

主权项

一种拒水膜形成用组合物，其特征在于，含有下述(A)的成分和下述(B)的成分，或含有下述(A)的成分和下述(B)的成分的部分水解共缩合物；(A)式(1)：Rf1‑Q1‑SiR1pX13‑p所表示的化合物及/或其部分水解缩合物，式中，Rf1为基团ClF2l+1，此处l为1～6的整数，Q1为碳原子数1～6的2价烃基，R1分别独立地为碳原子数1～6的1价烃基，X1分别独立地为羟基或者水解性基团，p为0～2的整数；(B)式(2’)：Rf3’‑O‑(CF2CF2O‑CF2CF2CF2CF2O)n8‑Q2’‑CH2CH2SiX2’3所表示的、且数均分子量为2600以上的化合物及/或其部分水解缩合物，式中，Rf3’为CF3或者CF3CF2‑，Q2’为‑CF2CF2O‑CF2CF2CF2‑C(O)NH‑CH2‑或者‑CF2CF2O‑CF2CF2CF2CH2‑O‑CH2‑，X2’分别独立地为烷氧基、卤素原子或者异氰酸酯基，n8为1以上的整数。