[发明专利]由石英玻璃制成的、用于在ArF准分子激光光刻中使用的光学部件以及用于制造该部件的方法有效
申请号: | 201480009659.1 | 申请日: | 2014-02-19 |
公开(公告)号: | CN104995145B | 公开(公告)日: | 2019-04-23 |
发明(设计)人: | B.屈恩 | 申请(专利权)人: | 赫罗伊斯石英玻璃股份有限两合公司 |
主分类号: | C03C4/00 | 分类号: | C03C4/00;C03B19/14;C03B19/01;C03B20/00;C03B32/00;G02B1/00;G02B1/02;C03C3/06 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 卢江;刘春元 |
地址: | 德国*** | 国省代码: | 德国;DE |
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摘要: | 本发明基于一种由合成石英玻璃制成的光学部件,所述光学部件用在借助193nm的应用波长的ArF准分子激光光刻中,所述光学部件具有基本上无氧缺陷位置的玻璃结构、具有在0.1x1016个分子/cm3至1.0x1018个分子/cm3的范围内的氢含量并且具有少于2x1017个分子/cm3的SiH基含量和具有在0.1wt.ppm和100wt.ppm之间范围内的羟基含量,其中玻璃结构具有小于1070℃的假定温度。为了基于在633nm的测量波长的情况下压实行为的测量在使用应用波长的UV激光辐射的情况下能够实现关于压实行为的可靠预测,提出光学部件的一种构型,其中,所述部件对利用波长为193nm、具有5x109个具有脉冲宽度为125ns并且能量密度分别为500µJ/cm2以及脉冲重复频率为2000Hz的脉冲的辐射的照射以激光诱导的折射率变化做出反应,所述折射率变化的量值在借助193nm的应用波长进行测量的情况下得出第一测量值M193nm并且在借助633nm的测量波长进行测量的情况下得出第二测量值M633nm,其中适用:M193nm/M633nm<1.7。 | ||
搜索关键词: | 石英玻璃 制成 用于 arf 准分子激光 光刻 使用 光学 部件 以及 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.用于制造由石英玻璃制成的光学部件的方法,所述方法包括以下方法步骤:(a)通过包含硅的初始物质的火焰水解产生由SiO2组成的多孔烟尘体;(b)使所述烟尘体干燥;(c)在起氧化作用的氛围中处理烟尘体,所述氛围包含N2O,其中在包含N2O的氛围中的处理在小于500℃的处理温度下进行,其中所述氛围的N2O含量在0.1Vol.‑%和10Vol.‑%之间并且处理持续时间是至少10小时,具有以下条件:在烟尘体中通过按照方法步骤(b)的干燥并且通过根据方法步骤(c)的处理设定羟基含量,使得(d)由于烟尘体的随后的烧结,得到由石英玻璃组成的半成品,所述半成品具有在0.1wt.ppm和100wt.ppm之间的范围内的平均羟基含量,并且(e)将所述半成品成型成由石英玻璃构成的坯件并且使所述坯件退火,使得所述坯件具有小于1070℃的平均假想温度;(f)通过在低于400℃的温度下在包含氢的氛围中的加热来给所述坯件加载氢,以产生0.1x1016个分子/cm3至1.0x1018个分子/cm3的范围中的平均氢含量,使得由合成石英玻璃制成的光学部件能够被用在借助193nm的应用波长的ArF准分子激光光刻中,所述光学部件具有基本上无氧缺陷位置的玻璃结构、具有在0.1x1016个分子/cm3至1.0x1018个分子/cm3的范围内的氢含量并且具有少于2x1017个分子/cm3的SiH基含量和具有在0.1wt.ppm和100wt.ppm之间的范围内的羟基含量,其中所述玻璃结构具有小于1070℃的假定温度并且对利用波长为193nm、具有5x109个脉冲宽度为125ns并且能量密度分别为500µJ/cm2以及脉冲重复频率为2000Hz的脉冲的辐射的照射以激光诱导的折射率变化做出反应,所述折射率变化的量值在借助193nm的应用波长进行测量的情况下得出第一测量值M193nm并且在借助633nm的测量波长进行测量的情况下得出第二测量值M633nm,其中适用:M193nm/M633nm<1.7。
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