[发明专利]用于选择性多光谱反射的雕刻复合材料

摘要

本发明提供了控制电磁光谱的可见、热、nIR、SWIR和微波/毫米带中的反射和透射的几何雕刻织物。该雕刻织物包含雕刻片，其可将铰接的连接部分移成开放和封闭的构型。该雕刻片可以含重叠、反转雕刻片、重叠反转和非反转雕刻片的图案，或雕刻片区块图案取向。可通过雕刻片的几何形状以及向雕刻织物施加的张力的量来调节电磁波的选择性透射。该雕刻织物包含含有不对称ePTFE层叠体、金属化层、ePTFE膜层和织物的复合材料。第二ePTFE不对称层叠体和金属层可连接复合材料以形成双面式复合物。可使用雕刻织物来形成选择性多光谱反射覆盖物和服装。

主权项

一种覆盖物，所述覆盖物包含：基底材料；以及至少一个固定于所述基底材料的雕刻板，所述雕刻板包含多个雕刻片，每个雕刻片包含铰接的片部分，其中所述铰接的片部分的至少一部分在项所述雕刻片施加张力后呈现非线性三维开放构型，其中所述雕刻片形成多个离散的区块图案，各离散的区块具有至少两排平行的基本铰链系统，各排包含一个反转雕刻片和两个非反转雕刻片，其中所述雕刻片以重叠反转形式取向，各离散的区块的长度为1.5mm至24cm，并且所述雕刻板的尺寸比所述基底材料小至少2％。