[发明专利]半导体装置的制造方法有效
申请号: | 201480012112.7 | 申请日: | 2014-05-08 |
公开(公告)号: | CN105190844B | 公开(公告)日: | 2017-08-22 |
发明(设计)人: | 中岛经宏 | 申请(专利权)人: | 富士电机株式会社 |
主分类号: | H01L21/304 | 分类号: | H01L21/304;H01L21/02 |
代理公司: | 北京铭硕知识产权代理有限公司11286 | 代理人: | 金玉兰,王颖 |
地址: | 日本神奈*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 将玻璃基板(3)经由粘合层(2)粘合到晶片(1)的、形成了正面单元结构的正面(1c)上。粘合层(2)在晶片(1)侧从晶片(1)的正面(1c)遍及到晶片(1)的倒角部(1b)和侧面形成,在玻璃基板(3)侧形成于玻璃基板(3)的第1面(3c)、不形成在玻璃基板(3)的倒角部(3b)和侧面(3a)。将晶片(1)的背面研磨后,在其背面形成背面单元结构。从玻璃基板(3)侧照射激光(13),从粘合层(2)剥离玻璃基板(3)。去除粘合层(2),通过切割切断晶片(1),由此完成形成有薄型半导体器件的芯片。通过这样,容易将粘合于晶片的支撑基板剥离并且能够防止晶片的碎片、破损。 | ||
搜索关键词: | 半导体 装置 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种半导体装置的制造方法,其特征在于,包括:粘合层形成工序,在半导体晶片的第1主面以使外周部侧比中央部侧突出的方式形成粘合层;粘合工序,以使所述粘合层覆盖至所述半导体晶片的侧面的方式,经由所述粘合层将支撑基板粘合于所述半导体晶片的第1主面,所述支撑基板的、与所述半导体晶片的第1主面相向的面和侧面之间的角部被倒角,通过所述粘合层覆盖所述支撑基板的从所述被倒角的部分到外侧的部分,所述制造方法还包括:去除工序,在所述粘合工序后,去除覆盖所述支撑基板的从所述被倒角的部分到外侧的部分的所述粘合层。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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