[发明专利]上层膜形成用组合物以及使用了其的抗蚀图案形成方法

摘要

本发明的课题在于提供一种上层膜形成用组合物以及使用了该上层膜形成用组合物的图案形成方法，该上层膜形成用组合物在基于极紫外线曝光而进行的图案形成方法中，可形成粗糙度、图案形状优异的图案。本发明的解决手段是一种上层膜形成用组合物，其特征在于包含具有亲水性基团的苯并菲衍生物以及溶剂；以及一种方法，其中，通过将该组合物涂布于抗蚀层表面，利用曝光显影而形成图案。该组合物也可进一步包含聚合物。

主权项

1.一种上层膜形成用组合物，用于形成在抗蚀膜上形成的上层膜，其特征在于包含具有亲水性基团的苯并菲衍生物以及溶剂，其中，所述苯并菲衍生物是在重复单元中包含苯并菲骨架的聚合物，所述聚合物是下述通式(2A)或者(2B)中的任一个：式中，R是氢，或者是从由羟基、羧基、磺酸基、氨基、酰胺基、硝基、氰基以及聚环氧烷基组成的组中选出的亲水性基团，全部的R之中，至少三个以上是亲水性基团，R¹是氢或者甲基，R’是氢，或者是从由羟基、羧基、磺酸基、氨基、酰胺基、硝基、氰基、聚环氧烷基组成的组中选出的亲水性基团，或者是由式(2B)表示的重复单元，全部的R’之中，至少三个以上是亲水性基团，L为二价的连结基。