[发明专利]用于对目标进行清洁的方法和装置

摘要

本发明涉及一种用于对目标(1)进行清洁的方法，具体用于消毒和/或杀菌用途，所述方法包括下述步骤：产生载运气体(2)的气流；产生处理液体(4)的雾气(3)；以及使所述雾气(3)与所述载运气体(2)一起移动至待利用第一等离子发生器(30)产生的等离子清洁的目标(1)，所述等离子包括具有滑动电弧的等离子。本发明还涉及一种用于对目标(1)进行清洁的清洁装置(100)，具体用于消毒和/或杀菌用途，所述清洁装置包括等离子发生器(30)，所述等离子发生器用于产生具有滑动电弧的等离子。

主权项

1.用于清洁目标(1)的方法，具体用于消毒和/或杀菌用途，所述方法包括下述步骤：‑产生载运气体(2)的气流，‑通过雾化装置(20)产生处理液体(4)的雾气(3)，以及‑使所述雾气(3)和所述载运气体(2)移动穿过第一等离子发生器(30)产生的等离子，到达待被清洁的所述目标(1)，其中，‑所述等离子包括具有滑动电弧的等离子，其特征在于，‑所述载运气体(2)在包含阻挡放电的第二等离子发生器(40)中经历等离子活化，其中，所述第二等离子发生器(40)布置在所述雾化装置(20)的上游，并且所述载运气体(2)的等离子活化包括臭氧的产生，‑所述雾化装置(20)具有用于容纳所述处理液体(4)的蓄液器(21)，所述蓄液器(21)中布置有至少一个超声波源(22)，在所述超声波源(22)的超声波的作用下，所述处理液体(4)的雾气(3)在所述蓄液器(21)中被产生在所述处理液体(4)的液面上方，‑所述处理液体(4)的雾气(3)借助所述载运气体(2)移动穿过所述第一等离子发生器(30)，到达待被清洁的所述目标(1)，‑所述处理液体(4)的雾气(3)被使用紫外光辐照，并且‑所述雾气的辐照发生在所述第一等离子发生器(30)的下游以及/或者发生在产生所述雾气(3)期间。