[发明专利]光学透镜及其制造方法及透镜单元、摄像模块、电子设备有效

专利信息
申请号: 201480013042.7 申请日: 2014-03-20
公开(公告)号: CN105190390B 公开(公告)日: 2018-07-06
发明(设计)人: 高田五朗 申请(专利权)人: 富士胶片株式会社
主分类号: G02B7/02 分类号: G02B7/02;G02B5/00
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 樊建中
地址: 日本国*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种抑制遮光膜的表面反射来防止杂散光的产生并可靠地去除无用光的光学透镜及其制造方法、以及透镜单元、摄像模块、电子设备。本发明的光学透镜具有使光线透射的透镜部(15a)和靠近透镜部(15a)而设置的遮光部(15b)。遮光部(15b)具有形成于透镜母材表面的遮光膜(17)。遮光膜(17)的至少包含透镜部(15a)侧内缘的部分的表层、和透镜部(15a)的与遮光膜(17)的边界部分被实施表面粗糙化处理。
搜索关键词: 透镜部 遮光膜 光学透镜 电子设备 摄像模块 透镜单元 遮光部 表面粗糙化处理 表面反射 光线透射 透镜母材 无用光 杂散光 内缘 去除 制造
【主权项】:
1.一种光学透镜,其具有使光线透射的透镜部和靠近所述透镜部而设置的遮光部,其中,所述遮光部具有形成于透镜母材表面的遮光膜,所述遮光膜的至少包含所述透镜部侧的内缘的部分的表层、和所述透镜部的与所述遮光膜的边界部分被实施表面粗糙化处理,所述遮光膜由多个层构成,包含遮光层和形成于所述遮光层上的表面粗糙化层,所述表面粗糙化处理后的所述遮光膜的膜厚为10~40μm,在通过所述表面粗糙化处理所形成的微小凹凸的平均间距设为p,通过所述表面粗糙化处理所形成的微小凹凸的深度设为tb时,tb/p的值为0.1以上。
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