[发明专利]成膜掩模的制造方法有效

专利信息
申请号: 201480014059.4 申请日: 2014-02-17
公开(公告)号: CN105051243B 公开(公告)日: 2017-06-23
发明(设计)人: 斋藤雄二;工藤修二;小菅崇之;水村通伸 申请(专利权)人: 株式会社V技术
主分类号: C23C14/04 分类号: C23C14/04
代理公司: 北京市隆安律师事务所11323 代理人: 权鲜枝
地址: 日本神*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明是将形成了多个开口图案的金属掩模片(4)张紧而固定于框状的金属框架7上的结构的成膜掩模的制造方法,进行如下步骤第1步骤,在被施加一定张力的合成纤维的网(1)上粘接金属掩模片(4)的周缘部;第2步骤,将与金属掩模片(4)的内含多个开口图案的大小的成膜有效区域对应的网(1)的部分切除;第3步骤,在金属掩模片(4)的周缘部从与网(1)相反的一侧接合、固定框架(7);以及第4步骤,将网(1)从金属掩模片(4)除去。
搜索关键词: 成膜掩模 制造 方法
【主权项】:
一种成膜掩模的制造方法,上述成膜掩模是将形成了多个开口图案的掩模片张紧而固定于框状的金属框架上的结构,上述成膜掩模的制造方法的特征在于,进行如下步骤:第1步骤,在被施加一定张力的合成纤维的网上,以使树脂制膜与片状的磁性金属构件的一面紧密接触的结构的掩模用构件的上述膜侧为上述网侧,粘接上述膜的周缘部,上述磁性金属构件设有内含至少一个上述开口图案的大小的多个贯通孔;第2步骤,将与上述掩模用构件的内含上述多个贯通孔的大小的成膜有效区域对应的上述网的部分切除;第3步骤,在上述掩模用构件的上述磁性金属构件的周缘部从与上述网相反的一侧接合、固定上述框架;第4步骤,将上述网从上述掩模用构件除去;以及第5步骤,向与上述磁性金属构件的上述贯通孔内的上述开口图案对应的上述膜的部分照射激光,形成上述开口图案。
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