[发明专利]增加光展量光学组件有效
| 申请号： | 201480014883.X | 申请日： | 2014-03-03 |
| 公开（公告）号： | CN105143981B | 公开（公告）日： | 2018-04-03 |
| 发明（设计）人： | I.赛杰;C.亨纳克斯 | 申请（专利权）人： | 卡尔蔡司SMT有限责任公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所11105 | 代理人： | 邱军 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种光学系统具有光源(2)，该光源具有小于0.1mm2的原始光展量，并用于投射光刻的照明系统(5)。光学组件(13)用于同时增加光源(2)的使用发射(12)的光展量。光学组件(13)实施成所述光展量以至少10的因子增加。光学组件(13)的要被入射的部件相对于所述光源(2)移位，使得所述光源(2)的发射(12)在所述光学组件(13)的光学部件上的入射区域随时间变化。 | ||
| 搜索关键词： | 增加 光展量 光学 组件 | ||
【主权项】：
光学系统，‑包括光源(2)，具有小于0.01mm2的原始光展量，用于投射光刻的照明系统(5)；‑包括光学组件(13；40)，用于同时增加所述光源(2)的使用发射(12)的光展量；其特征在于，‑所述光学组件(13；40)实施成所述光展量以至少10的因子同时增加；‑其中，所述光学系统实施成所述光学组件(13；40)的要被入射的部件(24；41；47；50)相对于所述光源(2)移位，使得所述光源(2)的发射(12)在所述光学组件(13；40)的光学部件(24；41；47；50)上的入射区域随时间变化。
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