[发明专利]具有包含InGaN的有源区的发光二极管半导体结构体在审
申请号: | 201480015148.0 | 申请日: | 2014-03-17 |
公开(公告)号: | CN105051921A | 公开(公告)日: | 2015-11-11 |
发明(设计)人: | J-P·德布雷;尚塔尔·艾尔纳;H·迈克法维林 | 申请(专利权)人: | 索泰克公司 |
主分类号: | H01L33/32 | 分类号: | H01L33/32;H01L33/06 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 庞东成;丁香兰 |
地址: | 法国*** | 国省代码: | 法国;FR |
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摘要: | 本发明涉及一种半导体结构体,其包含位于多个InGaN层之间的有源区。所述有源区至少基本由InGaN组成。所述多个InGaN层包含至少一个包含InwGa1-wN的阱层以及临近所述至少一个阱层的至少一个包含InbGa1-bN的势垒层。在某些实施方式中,所述阱层的InwGa1-wN中的w值可以大于或等于约0.10且小于或等于约0.40,在某些实施方式中,所述至少一个势垒层的InbGa1-bN中的b值可以大于或等于约0.01且小于或等于约0.10。本发明还涉及一种形成半导体结构体的方法,该方法包括生长上述InGaN层以形成如LED等发光器件的有源区。本发明还涉及照明器件,其包含上述LED。 | ||
搜索关键词: | 具有 包含 ingan 有源 发光二极管 半导体 结构 | ||
【主权项】:
一种半导体电致发光结构体,其包含:基体层,所述基体层包括n‑型掺杂层;设置在所述基体层上的有源区,所述有源区包含多个InGaN层,所述多个InGaN层包含至少一个包含InwGa1‑wN的阱层和至少一个包含InbGa1‑bN的势垒层,其中0.10≤w≤0.40,0.01≤b≤0.10;设置在所述有源区与所述基体层相对的一侧上的电子阻挡层,所述电子阻挡层包含IneGa1‑eN,其中0.00≤e≤0.02;设置在所述电子阻挡层上的p‑型InpGa1‑pN主体层,其中0.00≤p≤0.08;和设置在所述p‑型InpGa1‑pN主体层上的p‑型IncGa1‑cN接触层,其中0.00≤c≤0.10。
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