[发明专利]纳米多孔薄膜及其制造方法在审
| 申请号： | 201480015372.X | 申请日： | 2014-03-07 |
| 公开（公告）号： | CN105102105A | 公开（公告）日： | 2015-11-25 |
| 发明（设计）人： | 兰德尔·M·斯蒂尔伯格;彼得·V·拜德沃斯;斯科特·E·海斯;史蒂文·W·西恩特 | 申请（专利权）人： | 洛克希德马丁公司 |
| 主分类号： | B01D67/00 | 分类号： | B01D67/00;B01D69/10;B01D69/12;B01D71/02 |
| 代理公司： | 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 11204 | 代理人： | 王达佐;杨莘 |
| 地址： | 美国马*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 公开了一种制造纳米多孔薄膜的方法。该方法提供包括原子级薄材料层和聚合物层的复合膜，并接着以高能粒子撞击该复合膜，以形成至少穿过该原子级薄材料层的多个孔隙。纳米多孔薄膜还具有原子级薄材料层和相邻于该石墨烯层的一侧的聚合物膜层，该原子级薄材料层具有从中穿过的多个孔。聚合物膜层具有从中穿过的多个扩大的孔隙，该多个扩大的孔隙与多个孔对齐。所有扩大的孔隙可与所有孔同心对齐。在一个实施方式中，原子级薄材料层为石墨烯。 | ||
| 搜索关键词： | 纳米 多孔 薄膜 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种制造纳米多孔薄膜的方法，包括：提供包括原子级薄材料层和聚合物膜的复合膜，以及以高能粒子撞击所述复合膜，以形成至少穿过所述原子级薄材料层的多个孔隙。
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