[发明专利]光学活性反式1,2-二氨基环己烷的制造方法在审

专利信息
申请号: 201480016564.2 申请日: 2014-03-13
公开(公告)号: CN105143173A 公开(公告)日: 2015-12-09
发明(设计)人: 森井清二;森本正雄 申请(专利权)人: 东丽精细化工株式会社
主分类号: C07C209/84 分类号: C07C209/84;C07C211/36
代理公司: 北京市中咨律师事务所 11247 代理人: 曽祯;段承恩
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明为从光学活性反式1,2-二氨基环己烷的溶液进行晶体析出,从而得到光学活性反式1,2-二氨基环己烷的晶体的光学活性反式1,2-二氨基环己烷的制造方法。通过本发明,能够高收率地从光学活性反式1,2-二氨基环己烷的溶液获得高纯度的光学活性反式1,2-二氨基环己烷。通过本发明的光学活性反式1,2-二氨基环己烷的制造方法制造的高纯度的光学活性反式1,2-二氨基环己烷作为多种医药用原料是有用的。
搜索关键词: 光学 活性 反式 氨基 环己烷 制造 方法
【主权项】:
一种光学活性反式1,2‑二氨基环己烷的制造方法,从光学活性反式1,2‑二氨基环己烷的溶液进行晶体析出,从而得到光学活性反式1,2‑二氨基环己烷的晶体。
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