[发明专利]抗蚀剂下层膜组合物及利用其的图案形成方法有效
| 申请号： | 201480017300.9 | 申请日： | 2014-03-24 |
| 公开（公告）号： | CN105051609B | 公开（公告）日： | 2020-03-03 |
| 发明（设计）人： | 李正烈;林瑛培;金钟元;李载禹;金宰贤 | 申请（专利权）人： | 东进世美肯株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/11 | 分类号： | G03F7/11;G03F7/004;G03F7/26;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京冠和权律师事务所 11399 | 代理人： | 朱健;陈国军 |
| 地址： | 韩国仁川*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： |
本发明公开一种抗蚀剂下层膜组合物及利用其的图案形成方法，所述抗蚀剂下层膜组合物不仅热稳定性和耐蚀刻性优良，而且间隙填充(gap fill)特性也优良。上述抗蚀剂下层膜组合物，包含：包含以说明书的化学式1表示的重复单元的含芳香环高分子；以说明书的化学式4表示的化合物；以及有机溶剂。在说明书的化学式1中，R |
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| 搜索关键词： | 抗蚀剂 下层 组合 利用 图案 形成 方法 | ||
【主权项】：
一种抗蚀剂下层膜组合物，其特征在于，包含：包含以下述化学式1表示的重复单元的含芳香环高分子，[化学式1]![]()
在上述化学式1中，R1是碳原子数为5至20的单环或多环芳香烃基，R2和R3各自独立地为碳原子数为4至14的单环或多环芳香烃基，a为1至3的整数，b为0至2的整数；以下述化学式4表示的化合物，[化学式4]![]()
在上述化学式4中，n为1至250的整数；以及，有机溶剂。
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