[发明专利]数据处理装置、光学检测系统、数据处理方法、以及数据处理程序有效
| 申请号： | 201480017565.9 | 申请日： | 2014-02-19 |
| 公开（公告）号： | CN105051523B | 公开（公告）日： | 2019-02-01 |
| 发明（设计）人： | 森本直树;甲斐慎一 | 申请（专利权）人： | 索尼公司 |
| 主分类号： | G01N21/27 | 分类号： | G01N21/27;G01N21/64 |
| 代理公司： | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人： | 田喜庆;梁韬 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供能够高精度地指定一系列光强度数据中的与样本的存储区域对应的范围的数据处理装置。提供了一种数据处理装置，包括：数据确定部，在第一光强度分布数据和第二光强度分布数据的每个中，指定与用于存储检测目标的存储区域相对应的分析范围，基于从第一和第二光源发射到检测区域的光获取所述第一光强度分布数据和所述第二光强度分布数据；以及模式选择部，选择数据确定部的操作模式。模式选择部选择第一模式和第二模式中的一个，在第一模式中，数据确定部在第一光强度分布数据和第二光强度分布数据的每个指定分析范围；在第二模式中，数据确定部基于关于第一光强度分布数据的分析范围的信息，指定第二光强度分布数据中的分析范围。 | ||
| 搜索关键词： | 数据处理 装置 光学 检测 系统 方法 以及 程序 | ||
【主权项】：
1.一种数据处理装置，包括：数据确定部，在表示光强度关于时间或位置的分布的第一光强度分布数据和第二光强度分布数据的每个中，指定与用于存储检测目标的存储区域相对应的分析范围，所述第一光强度分布数据基于从第一光源发射到检测区域的光而获取，所述第二光强度分布数据基于从第二光源发射到所述检测区域的光而获取，其中，获取所述第一光强度分布数据的时间或位置与获取所述第二光强度分布数据的时间或位置不同；以及模式选择部，选择所述数据确定部的操作模式，其中，所述模式选择部选择以下的一种模式：第一模式，其中，所述数据确定部指定所述第一光强度分布数据和所述第二光强度分布数据的每个中的所述分析范围，以及第二模式，其中，所述数据确定部基于关于所述第一光强度分布数据的所述分析范围的信息，指定所述第二光强度分布数据中的所述分析范围。
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