[发明专利]陶瓷分离膜结构体以及其制造方法有效
| 申请号： | 201480019001.9 | 申请日： | 2014-03-10 |
| 公开（公告）号： | CN105073236B | 公开（公告）日： | 2017-09-22 |
| 发明（设计）人： | 内川哲哉;谷岛健二;犬饲直子;市川真纪子 | 申请（专利权）人： | 日本碍子株式会社 |
| 主分类号： | B01D71/02 | 分类号： | B01D71/02;B01D65/10;B01D69/04;B01D69/10;B01D69/12 |
| 代理公司： | 上海市华诚律师事务所31210 | 代理人： | 李晓 |
| 地址： | 日本国爱知县名*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 提供一种不用降低渗透性能也能提高分离性能的陶瓷分离膜结构体，以及其制造方法。陶瓷分离膜结构体包含陶瓷多孔质体9、配置于陶瓷多孔质体9之上的沸石分离膜33以及由有机无机杂化二氧化硅修补材料形成的修补部34。有机无机杂化二氧化硅是指由有机成分和包含二氧化硅的无机成分组合而成的物质。 | ||
| 搜索关键词： | 陶瓷 分离 膜结构 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种陶瓷分离膜结构体，其含有：陶瓷多孔质体，配置于所述陶瓷多孔质体之上的沸石分离膜，和由有机无机杂化二氧化硅修补材料形成的修补部，所述多孔质体具有由形成有大量细孔的多孔质构成的间隔墙，由所述间隔墙形成了作为流体流路的孔单元，在所述孔单元的内壁面上形成有所述沸石分离膜以及所述修补部，所述修补部形成于缺陷部，所述缺陷部为所述孔单元的内壁面之中，未覆盖有所述沸石分离膜的表面所露出的缺陷部，所述陶瓷多孔质体的形状为一体型结构体状，所述修补部为通过使所述修补材料的溶胶沿着沸石分离膜的表面流下的流下法，使所述修补材料附着在所述沸石分离膜的缺陷部上而形成。
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