[发明专利]光催化剂及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201480019572.2 申请日: 2014-04-08
公开(公告)号: CN105121014B 公开(公告)日: 2017-04-05
发明(设计)人: 藤井佑基;三浦裕太;宫尾幸光 申请(专利权)人: 日立金属株式会社
主分类号: B01J35/02 分类号: B01J35/02;B01J35/04;B01J37/08;B01J37/12
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司11021 代理人: 蒋亭
地址: 日本国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明提供一种具有抗菌性的光催化剂,是在对由钛或钛合金构成的钛制箔的表面实施给定的时间的阳极氧化处理后、实施加热处理而在基材的表面形成含有锐钛矿型氧化钛的晶体结构的氧化钛皮膜的光催化剂,在氧化钛皮膜的表面散布有密集形成微孔的多孔区域。
搜索关键词: 光催化剂 及其 制造 方法
【主权项】:
一种光催化剂的制造方法,其是制造下述光催化剂的方法,所述光催化剂是在由钛或钛合金构成的基材表面形成了含有锐钛矿型氧化钛的晶体结构的氧化钛皮膜的光催化剂,在所述氧化钛皮膜的表面散布有密集形成微孔的多孔区域,在将孔宽度的最大值与最小值的平均值设为孔宽度W时,所述微孔的孔宽度W为50nm~300nm,在利用扫描型电子显微镜观察该多孔区域时,在所述多孔区域的纵横为1000nm×1000nm的正方形范围内,存在有19个以上的所述微孔,该方法使用下述水溶液作为电解浴对所述基材的表面实施了阳极氧化处理后、实施加热处理,所述水溶液由0.1wt%~5.0wt%浓度的过氧化氢水与0.1wt%~3.0wt%的酒石酸钠水溶液组成,所述浓度是以作为所述电解浴的水溶液为基准的浓度,将阳极氧化处理的施加电压设为+70V~+140V,将阳极氧化时间设为15秒~30秒,将阳极氧化处理的电解浴的浴温设为5℃~20℃,加热处理在氧化性气氛中、400℃~750℃的温度下进行1~30分钟。
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