[发明专利]MALDI用试样调制方法以及试样调制装置有效
| 申请号： | 201480019830.7 | 申请日： | 2014-04-04 |
| 公开（公告）号： | CN105209899B | 公开（公告）日： | 2017-12-01 |
| 发明（设计）人： | 绪方是嗣;高桥和辉;久保亚纪子;末松诚;山本卓志 | 申请（专利权）人： | 株式会社岛津制作所;学校法人庆应义塾 |
| 主分类号： | G01N27/64 | 分类号： | G01N27/64 |
| 代理公司： | 上海市华诚律师事务所31210 | 代理人： | 徐乐乐 |
| 地址： | 日本京都府京都*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 在导电性载玻片上粘贴生物组织切片等样品(S1)后，通过真空蒸镀，形成覆盖样品的适当的基质(Matrix)物质膜层(S2)。该膜层中的基质物质的结晶非常细，均匀性也高。接着，将形成有基质膜层的载玻片置于气化溶剂气氛中，使溶剂浸润到基质膜层中(S3)。充分浸润的溶剂气化时，样品中的测定对象物质进入基质中而再结晶化。另外，通过真空蒸镀，在其表面再次形成基质膜层(S4)。追加的基质膜层会在MALDI时吸收激光的过剩能量，抑制测定对象物质的改性等，因此在具有高空间分辨率的同时可以实现高检测灵敏度。 | ||
| 搜索关键词： | maldi 试样 调制 方法 以及 装置 | ||
【主权项】：
一种MALDI用试样调制方法，其是调制用于使用了基质辅助激光解吸离子化法的质谱分析的试样的试样调制方法，其特征在于，实施如下步骤：a)基质层叠步骤，在真空气氛中使基质物质气化，使该基质物质层叠在载有作为测定对象的样品的试样基板表面；b)溶剂导入步骤，使形成在所述试样基板上的基质膜层表面与气体状或液体状的规定溶剂接触，使该溶剂浸润到所述基质膜层中；c)基质再层叠步骤，在真空气氛中使基质物质气化，再次使基质物质层叠在所述溶剂已浸润的状态的、或浸润溶剂已挥发的状态的所述基质膜层表面。
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