[发明专利]透明导电膜形成用墨组合物、透明导电膜、透明电极的制造方法以及图像显示装置在审

专利信息
申请号: 201480020392.6 申请日: 2014-04-02
公开(公告)号: CN105143366A 公开(公告)日: 2015-12-09
发明(设计)人: 石井康久;水野幹久;井上纯一;金子直人 申请(专利权)人: 迪睿合电子材料有限公司
主分类号: C09D11/52 分类号: C09D11/52;H01B1/00;H01B1/22;H01B5/14;H01B13/00
代理公司: 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 代理人: 王颖;金玉兰
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 对于由使用金属纳米线的透明导电膜构成的透明电极,简化了透明导电膜的图案化工序数,并且提高了由透明导电膜形成的透明电极的图案化精度。用于形成电极间距离为20μm以上的透明电极的透明导电膜形成用墨含有金属纳米线、感光材料以及溶剂。金属纳米线的平均长度为电极间距离的1.5倍以下。
搜索关键词: 透明 导电 形成 用墨 组合 电极 制造 方法 以及 图像 显示装置
【主权项】:
一种透明导电膜形成用墨组合物,是用于形成电极间距离为20μm以上的透明电极的透明导电膜形成用墨,其中,含有金属纳米线、感光材料以及溶剂,且金属纳米线的平均长度为电极间距离的1.5倍以下。
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