[发明专利]球节及其制造方法有效
| 申请号： | 201480021180.X | 申请日： | 2014-03-03 |
| 公开（公告）号： | CN105229317B | 公开（公告）日： | 2018-06-08 |
| 发明（设计）人： | 三宅浩二;西海良平;小森健太郎 | 申请（专利权）人： | 本田技研工业株式会社 |
| 主分类号： | F16C11/06 | 分类号： | F16C11/06;C23C14/14;C23C16/27 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 洪秀川 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供能够以短时间、不导致成本上升且容易地形成具有期望的表面粗糙度和膜硬度的DLC膜，廉价且大量提供具备稳定的滑动特性的球节的技术。一种球节的制造方法，是具备具有球面部的球头螺栓、和活动自由地保持球面部的保持部的球节的制造方法，其具备：基底中间层形成工序，使用溅射法在球面部的表面形成具有微小的表面凹凸结构的基底中间层；和非晶质硬质碳膜形成工序，使用PIG等离子体成膜法在基底中间层之上形成表面的均方根粗糙度为6.5～35nm的非晶质硬质碳膜。 | ||
| 搜索关键词： | 基底 球节 硬质碳膜 非晶质 球面部 中间层 制造 等离子体成膜法 中间层形成工序 表面凹凸结构 均方根粗糙度 表面粗糙度 表面形成 滑动特性 球头螺栓 形成工序 溅射法 膜硬度 种球 期望 自由 | ||
【主权项】：
一种球节的制造方法，其特征在于，是具备具有球面部的球头螺栓、和活动自由地保持所述球面部的保持部的球节的制造方法，其具备：基底中间层形成工序，使用溅射法在所述球面部的表面形成具有均方根粗糙度为3.0～35nm的微小的表面凹凸结构的基底中间层；和非晶质硬质碳膜形成工序，使用PIG等离子体成膜法在所述基底中间层之上形成表面的均方根粗糙度为6.5～35nm的非晶质硬质碳膜，所述非晶质硬质碳膜形成工序是通过追从所述基底中间层的表面粗糙度，使所述非晶质硬质碳膜成长，从而控制所述非晶质硬质碳膜的表面粗糙度，并且，通过控制成膜参数来控制所述非晶质硬质碳膜的硬度的工序。
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