[发明专利]用于光谱测量系统的校准的光学基准有效
申请号: | 201480021276.6 | 申请日: | 2014-02-11 |
公开(公告)号: | CN105358946B | 公开(公告)日: | 2017-07-14 |
发明(设计)人: | 曾海山;王鹤群;T·A·布朗 | 申请(专利权)人: | 曾海山 |
主分类号: | G01J3/02 | 分类号: | G01J3/02;A61B6/00 |
代理公司: | 北京嘉和天工知识产权代理事务所(普通合伙)11269 | 代理人: | 严慎 |
地址: | 加拿大不列*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 公开了光学基准和校准设备的实施例,所述校准设备用于使用这样的光学基准来校准或表征光谱学系统。所述光学基准可以包括对乙酰氨基酚和硫酸钡的混合物,其中对乙酰氨基酚在混合物中的质量小于BaSO4的质量。这样的光学基准可以被用在用于校准或表征光谱学系统的校准装置中。所述校准装置可以包括具有顶表面和底表面的基板基体。顶表面可以包括用于接收光学基准样本的部分。接收部分可以是粘性的。所述校准装置还可以包括薄膜,该薄膜可以附接到基板基体的顶表面以至少覆盖基板的其上正放置有光学基准的部分。在校准测量完成之后所述校准装置可以被丢弃。所述光学基准和使用该光学基准的校准设备可以被用作校准拉曼系统的波长校准基准、用于反射光谱测量或者用于荧光光谱系统中的可靠性检查的反射参考基准。 | ||
搜索关键词: | 用于 光谱 测量 系统 校准 光学 基准 | ||
【主权项】:
一种用于光谱学测量装置的校准或表征的光学基准,所述基准包括:‑对乙酰氨基酚和硫酸钡的混合物,其中所述对乙酰氨基酚和所述硫酸钡在所述混合物中的比率是这样的,所述对乙酰氨基酚的质量小于所述硫酸钡的质量。
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