[发明专利]氧化硅包覆氧化锌和其制造方法及含有氧化硅包覆氧化锌的组合物以及化妆材料有效
申请号: | 201480021402.8 | 申请日: | 2014-03-31 |
公开(公告)号: | CN105228954B | 公开(公告)日: | 2017-10-24 |
发明(设计)人: | 板垣哲朗;草原佳树;藤桥岳;须磨俊辅 | 申请(专利权)人: | 住友大阪水泥株式会社 |
主分类号: | C01G9/02 | 分类号: | C01G9/02;A61K8/27;A61Q1/00;A61Q17/04 |
代理公司: | 北京同立钧成知识产权代理有限公司11205 | 代理人: | 杨文娟,臧建明 |
地址: | 日本东京千*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明提供一种能够抑制锌离子从氧化锌粒子中溶出的氧化硅包覆氧化锌和其制造方法及含有氧化硅包覆氧化锌的组合物以及化妆材料。这种氧化硅包覆氧化锌是通过氧化硅被膜包覆氧化锌粒子的表面而成,其特征在于,所述氧化锌粒子的平均粒径为1nm以上且50nm以下,当将所述氧化硅被膜中的硅在Q3环境下的存在比设为Q3、在Q4环境下的存在比设为Q4时,Q3+Q4≥0.6且Q4/(Q3+Q4)≥0.5,另外,通过该氧化锌粒子的光催化活性而产生的亮蓝的分解率为3%以下。 | ||
搜索关键词: | 氧化 硅包覆 氧化锌 制造 方法 含有 组合 以及 化妆 材料 | ||
【主权项】:
一种氧化硅包覆氧化锌,其是通过氧化硅被膜包覆氧化锌粒子的表面而成,其特征在于,所述氧化锌粒子的平均粒径为1nm以上且50nm以下,当将所述氧化硅被膜中的硅在Q3环境下的存在比设为Q3、在Q4环境下的存在比设为Q4时,Q3+Q4≥0.6且Q4/(Q3+Q4)≥0.5。
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