[发明专利]图案形成方法、电子元件的制造方法及电子元件在审
| 申请号： | 201480021866.9 | 申请日： | 2014-04-14 |
| 公开（公告）号： | CN105122144A | 公开（公告）日： | 2015-12-02 |
| 发明（设计）人： | 中村贵之;山中司 | 申请（专利权）人： | 富士胶片株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/38 | 分类号： | G03F7/38;G03F7/004;G03F7/038;G03F7/039;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人： | 杨文娟;臧建明 |
| 地址： | 日本东京港区*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种图案形成方法，其依序包含：将感光化射线性或感放射线性树脂组合物涂布于基板上而形成感光化射线性或感放射线性膜的步骤，感光化射线性或感放射线性树脂组合物含有由于酸的作用而对包含一种以上有机溶剂的显影液的溶解度减少的树脂、通过照射光化射线或放射线而产生酸的化合物、及溶剂；经由液浸液对感光化射线性或感放射线性膜进行曝光的步骤；对感光化射线性或感放射线性膜进行加热的步骤；及利用包含有机溶剂的显影液对感光化射线性或感放射线性膜进行显影的步骤；并且，在膜形成步骤之后且曝光步骤之前、和/或曝光步骤之后且加热步骤之前包含对感光化射线性或感放射线性膜进行清洗的步骤。 | ||
| 搜索关键词： | 图案 形成 方法 电子元件 制造 | ||
【主权项】：
一种图案形成方法，其依序包含：‑将感光化射线性或感放射线性树脂组合物涂布于基板上而形成感光化射线性或感放射线性膜的步骤，所述感光化射线性或感放射线性树脂组合物含有由于酸的作用而对包含一种以上有机溶剂的显影液的溶解度减少的树脂、通过照射光化射线或放射线而产生酸的化合物、及溶剂；‑经由液浸液对所述感光化射线性或感放射线性膜进行曝光的步骤；‑对所述感光化射线性或感放射线性膜进行加热的步骤；以及‑利用包含有机溶剂的显影液对所述感光化射线性或感放射线性膜进行显影的步骤；并且在所述膜形成步骤之后且所述曝光步骤之前、和/或所述曝光步骤之后且所述加热步骤之前包含‑对所述感光化射线性或感放射线性膜进行清洗的步骤。
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