[发明专利]浮抛窑顶盖构件、使用它的浮法平板玻璃制造装置、及浮法平板玻璃制造方法有效
| 申请号： | 201480022193.9 | 申请日： | 2014-04-15 |
| 公开（公告）号： | CN105339315B | 公开（公告）日： | 2017-12-01 |
| 发明（设计）人： | 滨岛和雄;松冈瑞树;伴信之;后藤真毅 | 申请（专利权）人： | 旭硝子株式会社 |
| 主分类号： | C03B18/16 | 分类号： | C03B18/16;C04B35/185 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司11219 | 代理人： | 王海川,穆德骏 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 提供抑制了使用时的蠕变变形的浮抛窑顶盖构件、使用它的浮法平板玻璃制造装置、及浮法平板玻璃制造方法。一种浮抛窑顶盖构件，其中，所述顶盖构件包含氧化铝‑二氧化硅基烧结体，所述氧化铝‑二氧化硅基烧结体中各晶相的90质量％以上为莫来石相、且氧化钠、氧化钾、氧化钛、氧化铁的合计含量为2质量％以下，由平均晶粒尺寸D50为1.0mm以上的粗粒及平均晶粒尺寸D50为0.1mm以下的细粒构成，该粗粒及细粒的质量比为85～60质量％及15～40质量％。 | ||
| 搜索关键词： | 窑顶 构件 使用 平板玻璃 制造 装置 方法 | ||
【主权项】：
一种浮抛窑顶盖构件，其中，所述顶盖构件包含氧化铝‑二氧化硅基烧结体，所述氧化铝‑二氧化硅基烧结体中各晶相的90质量％以上为莫来石相、且氧化钠、氧化钾、氧化钛、氧化铁的合计含量为2质量％以下，所述浮抛窑顶盖构件由平均晶粒尺寸D50为1.0mm以上的粗粒及平均晶粒尺寸D50为0.1mm以下的细粒构成，且所述粗粒和所述细粒各自的质量比为85～60质量％及15～40质量％。
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