[发明专利]具有良好加工行为的冷流降低的聚合物有效

专利信息
申请号: 201480023445.X 申请日: 2014-04-11
公开(公告)号: CN105143315B 公开(公告)日: 2018-01-09
发明(设计)人: 诺贝特·施泰因豪泽;托马斯·格罗斯 申请(专利权)人: 阿朗新科德国有限责任公司
主分类号: C08G77/14 分类号: C08G77/14;C07F7/08;C08C19/44;C08F2/38;C08K3/04;C08K3/36;C08L13/00;B60C1/00;C08F36/04;C08C19/25;C08K3/00;C08C19/30;C08C19/36;C
代理公司: 北京康信知识产权代理有限责任公司11240 代理人: 张英,宫传芝
地址: 德国多*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明涉及具有良好的加工行为的冷流降低的聚合物,这些在该聚合物链末端具有一个具有式(I)的含硅烷的羧基其中R1、R2是相同或不同的,并且是H、烷基、烷氧基、环烷基、环烷氧基、芳基、芳氧基、烷芳基、烷芳氧基、芳烷基或芳烷氧基,其可以包含一个或多个杂原子,优选O、N、S或Si,R3、R4是相同或不同的,并且是H、烷基、环烷基、芳基、烷芳基或芳烷基,其可以包含一个或多个杂原子,优选O、N、S或Si,A是一个二价有机基团,除了C和H之外,它可包含一个或多个杂原子,优选O、N、S或Si。
搜索关键词: 具有 良好 加工 行为 冷流 降低 聚合物
【主权项】:
聚合物混合物,包含a)端基官能化的聚合物,该聚合物在该聚合物链的末端具有一个具有式(I)的含硅烷的羧基其中R1、R2是相同或不同的,并且各自是H、烷基、烷氧基、环烷基、环烷氧基、芳基、芳氧基、烷芳基、烷芳氧基、芳烷基或芳烷氧基,R3、R4是相同或不同的,并且各自是H、烷基、环烷基、芳基、烷芳基或芳烷基,A是一个二价有机基团并且其中,该聚合物是二烯聚合物和/或通过二烯烃与乙烯基芳香族单体的共聚可获得的二烯共聚物以及b)二聚物,该二聚物具有一个或多个衍生自具有式(III)的硅杂内酯的结构要素其中R1、R2是相同或不同的,并且各自是H、烷基、烷氧基、环烷基、环烷氧基、芳基、芳氧基、烷芳基、烷芳氧基、芳烷基或芳烷氧基,R3、R4是相同或不同的,并且各自是H、烷基、环烷基、芳基、烷芳基或芳烷基,A是一个二价有机基团。
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