[发明专利]用于分层装置的密封件和密封系统有效

专利信息
申请号: 201480023716.1 申请日: 2014-03-06
公开(公告)号: CN105143970B 公开(公告)日: 2019-10-18
发明(设计)人: 西蒙·詹姆士·高蒂尔;杜安·拉姆;安德鲁·科特桑德里奥斯;乔纳森·罗斯·萨贞特;彼得·亚历山大·冯哈恩 申请(专利权)人: 思维奇材料公司
主分类号: G02F1/161 分类号: G02F1/161;B32B3/08;C09K3/10;G02C7/10;G02F1/155;C09K9/00;B32B17/00
代理公司: 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 11204 代理人: 王达佐;洪欣
地址: 加拿大不列*** 国省代码: 加拿大;CA
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 本公开部分提供用于密封膜的密封系统。本公开进一步部分提供密封的膜,其包括第一基底和第二基底;设置在至少一个基底的表面上的第一电极和第二电极;设置在第一基底和第二基底之间的转换材料;第一密封件和第二密封件;所述第一密封件沿转换材料的边缘设置,并将转换材料与第二密封件分隔。
搜索关键词: 用于 分层 装置 密封件 密封 系统
【主权项】:
1.一种密封的膜,包括:柔性的第一基底和柔性的第二基底;第一电极和第二电极,其设置在至少一个所述基底的表面上;转换材料,其设置在所述第一基底和所述第二基底之间;第一密封件和第二密封件;所述第一密封件沿所述转换材料的边缘设置,将所述转换材料与所述第二密封件分隔,其中所述密封的膜是无垫片的密封的膜。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于思维奇材料公司,未经思维奇材料公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201480023716.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top