[发明专利]用于利用脉冲磁场来磁化激光等离子体的装置有效
申请号: | 201480023963.1 | 申请日: | 2014-02-26 |
公开(公告)号: | CN105283924B | 公开(公告)日: | 2017-10-03 |
发明(设计)人: | 朱利恩·福克斯;布鲁诺·阿尔贝塔兹;亨利·佩平;奥利维尔·珀尔图伽尔;杰罗姆·比尔德 | 申请(专利权)人: | 巴黎综合理工学院 |
主分类号: | G21B3/00 | 分类号: | G21B3/00;H05H6/00 |
代理公司: | 北京同达信恒知识产权代理有限公司11291 | 代理人: | 黄志华,何月华 |
地址: | 法国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明涉及一种用于利用脉冲磁场来磁化激光等离子体的装置(1),所述装置包括用于发出激光脉冲(3)的激光源(2);真空腔室(4),在所述真空腔室中布置有靶(5),所述靶(5)在所述激光脉冲与所述靶的相互作用的期间能够产生激光等离子体(6);以及绕组(8),所述绕组(8)能够在所述激光等离子体中产生脉冲磁场,所述装置的特征在于,所述绕组(8)布置在容纳冷却剂(11)的再凹入腔室(10)中。 | ||
搜索关键词: | 用于 利用 脉冲 磁场 磁化 激光 等离子体 装置 | ||
【主权项】:
一种用于利用脉冲磁场来磁化激光等离子体的装置,所述装置包括:真空腔室(4),在所述真空腔室(4)中放置有靶(5),所述靶(5)在所述靶(5)与激光脉冲(3)的相互作用的期间能够产生激光等离子体(6);以及绕组(8),所述绕组(8)能够被供电,以在所述激光等离子体中产生脉冲磁场(9),所述装置的特征在于,所述绕组被放置在基本上穿透到所述真空腔室(4)的内部中且容纳冷却流体(11)的再凹入腔室(10)中。
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