[发明专利]具有空间分布的气体通道的气流控制衬垫

摘要

本公开内容的实施方式提供一种衬垫组件，所述衬垫组件包括多个各自分开的气体通道。所述衬垫组件能实现遍及待处理的基板上的流动参数的可保持性，这些流动参数诸如速度、密度、方向和空间位置。可利用根据本公开内容的实施方式的衬垫组件，对遍及待处理的基板上的处理气体进行特别地调整，以适用于单独的工艺。

主权项

1.一种用于保护具有多个气体注射器的基板处理腔室的内表面的衬垫组件，所述衬垫组件包括：/n环形主体，所述环形主体具有外表面和内表面，所述环形主体的外表面的尺寸被设计成由所述基板处理腔室的所述内表面所接收，而所述环形主体的内表面界定基板处理容积，其中所述环形主体包括多个气体通道，所述多个气体通道形成为穿过所述环形主体，其中所述多个气体通道将所述外表面连接至所述基板处理容积，且所述多个气体通道间隔开以与所述多个气体注射器对齐；和/n上衬垫，所述上衬垫设置在所述环形主体上方，其中所述上衬垫包括多个流动导引件，所述多个流动导引件与所述多个气体通道对齐。/n