[发明专利]新的基于聚硅氧烷的污垢脱除涂层在审
申请号: | 201480024366.0 | 申请日: | 2014-05-02 |
公开(公告)号: | CN105209557A | 公开(公告)日: | 2015-12-30 |
发明(设计)人: | S·M·奥尔森;P·C·W·托雷克森;D·M·叶勃拉 | 申请(专利权)人: | 汉伯公司 |
主分类号: | C09D5/16 | 分类号: | C09D5/16 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 王刚 |
地址: | 丹麦*** | 国省代码: | 丹麦;DK |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本申请公开一种基于硅酮的污垢脱除涂层,其包含占所述涂层的至少40干重%的基于聚硅氧烷的粘合剂基质,其中所述聚硅氧烷部分占粘合剂基质的大于65重量%,所述涂层的所述粘合剂基质包含作为其一部分的两性离子结构部分和/或所述涂层包含一种或多种两性离子化合物。在一些实施方案中,该涂层进一步包含选自杀生物剂和酶的一种或多种活性成分,特别是杀生物剂。本申请还涉及相应的涂料组合物(油漆),涂层体系,和涉及具有所包含的一种或多种两性离子官能的成分和选自杀生物剂和酶的一种或多种活性成分的组合的用途,用于改进基于聚硅氧烷的涂料组合物的抗污性能。 | ||
搜索关键词: | 基于 聚硅氧烷 污垢 脱除 涂层 | ||
【主权项】:
基于硅酮的污垢脱除涂层,其包含占所述涂层的至少40干重%的基于聚硅氧烷的粘合剂基质,其中聚硅氧烷部分占所述粘合剂基质的大于65重量%,所述涂层的所述粘合剂基质包含作为其一部分的两性离子结构部分和/或所述涂层包含一种或多种两性离子化合物,和所述涂层进一步包含选自杀生物剂和酶的一种或多种活性成分。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于汉伯公司,未经汉伯公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201480024366.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:由多个薄膜形成的防指纹层的组合物及其制备方法
- 下一篇:聚乙烯组合物