[发明专利]用于电绝缘晶粒取向电工钢带的无铬涂层有效
申请号: | 201480024995.3 | 申请日: | 2014-04-07 |
公开(公告)号: | CN105324515B | 公开(公告)日: | 2018-04-03 |
发明(设计)人: | U·松德迈尔;R·瓦尔克;R·赫希施特拉特 | 申请(专利权)人: | 汉高股份有限及两合公司 |
主分类号: | C23C22/74 | 分类号: | C23C22/74;C23C22/20;C23C22/22;C21D8/12;H01F1/147 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司72002 | 代理人: | 王冬慧,于辉 |
地址: | 德国杜*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明涉及一种含水组合物,所述含水组合物基于磷酸盐、铝离子和其它金属离子(特别是锰离子和锌离子),以及硅酸盐、硅氧烷或硅烷,用于在金属表面提供防腐蚀涂层,特别是用于晶粒取向电工钢带的电绝缘。为了期望的功能,根据本发明的组合物以相互间的预定比例包含所述组分。本发明还涉及一种使用所述含水组合物涂覆金属工件表面的方法,其中所述方法在腐蚀防护和粘附性方面产生了优异的结果,特别是在晶粒取向的电工钢带上。 | ||
搜索关键词: | 用于 绝缘 晶粒 取向 电工 涂层 | ||
【主权项】:
水基无铬组合物,其包含:a)磷酸和/或其酸根阴离子;b)溶剂化铝阳离子;c)包含元素Fe、Zn和/或Mn的溶剂化离子;d)至少一种硅酸盐和/或至少一种水溶性硅烷或硅氧烷;其中,根据组分b)的铝阳离子与根据组分a)的磷酸和/或其酸根阴离子的量的摩尔比不大于1.0,并且不小于0.1,在每种情况下根据组分a)的磷酸和/或其酸根阴离子的量以PO4计,其中,根据组分c)的溶剂化离子的总量与根据组分a)的磷酸和/或其酸根阴离子的量的摩尔比不大于1.0,并且不小于0.1,根据组分c)的溶剂化离子的总量以元素Fe、Zn和Mn的总量计,并且根据组分a)的磷酸和/或其酸根阴离子的量以PO4计,其中存在元素锌的溶剂化离子作为组分c),并且还存在至少另外一种根据组分c)的其它元素的溶剂化离子,以及其中,根据组分d)的硅酸盐、硅烷或硅氧烷与根据组分a)的磷酸和/或其酸根阴离子的量的摩尔比不大于3.0,并且不小于0.2,根据组分d)的硅酸盐、硅烷或硅氧烷以SiO2计,并且根据组分a)的磷酸和/或其酸根阴离子的量以PO4计。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C22-00 表面与反应液反应、覆层中留存表面材料反应产物的金属材料表面化学处理,例如转化层、金属的钝化
C23C22-02 .使用非水溶液的
C23C22-05 .使用水溶液的
C23C22-70 .使用熔体
C23C22-73 .以工艺为特征的
C23C22-78 .待镀覆材料的预处理
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C22-00 表面与反应液反应、覆层中留存表面材料反应产物的金属材料表面化学处理,例如转化层、金属的钝化
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