[发明专利]刻蚀用清洗液以及使用其的图案形成方法有效

专利信息
申请号: 201480025048.6 申请日: 2014-05-01
公开(公告)号: CN105190445B 公开(公告)日: 2019-07-05
发明(设计)人: 松浦裕里子;露木纱罗;能谷刚 申请(专利权)人: AZ电子材料(卢森堡)有限公司
主分类号: G03F7/32 分类号: G03F7/32;H01L21/027
代理公司: 北京三幸商标专利事务所(普通合伙) 11216 代理人: 刘淼
地址: 卢森堡(L-1*** 国省代码: 卢森堡;LU
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摘要: 通过使用包含由下述式(I)表示的非离子类表面活性剂和水的刻蚀用清洗液,对通过将感光性树脂进行曝光、显影而获得的微细抗蚀图案进行清洗,从而形成没有图案倒塌、图案缺陷、线宽偏差、图案熔化的抗蚀图案。式中,R1、R2可以相同也可以不同,表示氢原子或者甲基,R3、R4可以相同也可以不同,表示氢原子、甲基或者乙基,R5表示包含双键或三键的碳原子数2~5的烃基或者亚苯基,R6、R7可以相同也可以不同,表示氢原子或者甲基。
搜索关键词: 刻蚀 清洗 以及 使用 图案 形成 方法
【主权项】:
1.一种图案形成方法,其特征在于包含如下的工序:(1)在基板上涂布化学放大型感光性树脂组合物来形成感光性树脂组合物层的工序,(2)使用极紫外线将所述感光性树脂组合物层进行曝光的工序,(3)利用显影液将曝光完的感光性树脂组合物层进行显影的工序,(4)显影后,使用刻蚀用清洗液进行清洗的工序,该刻蚀用清洗液包含由下述式(I)表示的非离子类表面活性剂和水;式中,R1、R2可以相同也可以不同,表示氢原子或者甲基,R3、R4可以相同也可以不同,表示氢原子、甲基或者乙基,R5表示包含双键或三键的碳原子数2~5的烃基或者亚苯基,R6、R7可以相同也可以不同,表示氢原子或者甲基。
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