[发明专利]含有具高熔融强度低密度乙烯基聚合物的组合物和由其形成的膜有效
| 申请号： | 201480026091.4 | 申请日： | 2014-05-21 |
| 公开（公告）号： | CN105189637B | 公开（公告）日： | 2018-02-06 |
| 发明（设计）人： | C·F·J·邓都尔德;T·P·卡里亚拉;O·J·巴比;L·L·考尔多什 | 申请（专利权）人： | 陶氏环球技术有限责任公司 |
| 主分类号： | C08L23/04 | 分类号： | C08L23/04 |
| 代理公司： | 北京坤瑞律师事务所11494 | 代理人： | 吴培善 |
| 地址： | 美国密*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种组合物，其包含以下各物A)第一乙烯基聚合物，其由高压自由基聚合方法形成，并且包含以下特性a)Mw(abs)与I2关系Mw(abs)＜A×[(I2)B]，其中A＝5.00×102(kg/mol)/(dg/min)B，并且B＝‑0.40；和b)MS与I2关系MS≥C×[(I2)D]，其中C＝13.5cN/(dg/min)D，并且D＝‑0.55，c)熔融指数(I2)为大于0.9到2.5g/10min；和B)第二乙烯基聚合物；并且其中所述第二乙烯基聚合物的熔融指数(I2)为0.1到4.0g/10min。 | ||
| 搜索关键词： | 含有 熔融 强度 密度 乙烯基 聚合物 组合 形成 | ||
【主权项】：
一种组合物，其包含以下各物：A)第一乙烯基聚合物，其由高压自由基聚合方法形成，并且包含以下特性：a)Mw(abs)与I2关系：Mw(abs)<A×[(I2)B]，其中A＝5.00×102(kg/mol)/(dg/min)B，并且B＝‑0.40；和b)MS与I2关系：MS≥C×[(I2)D]，其中C＝13.5cN/(dg/min)D，并且D＝‑0.55，c)熔融指数(I2)为大于0.9到2.5g/10min；和B)第二乙烯基聚合物；并且其中所述第二乙烯基聚合物的熔融指数(I2)为0.1到4.0g/10min。
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