[发明专利]曝光装置

摘要

本发明提供一种曝光装置，该曝光装置(1)具备支承部(2S、3S)，分别支承沿一轴方向厚度不均匀的基板(3)和掩模(2)；扫描曝光机构(10)，使配置于掩模(2)与基板(3)间的微透镜阵列(12)相对于基板(3)及掩模(2)进行相对移动，使掩模图的一部分成像于局部曝光区域(Ep)，并沿一轴方向扫描局部曝光区域(Ep)；掩模/基板间隔调整机构(20)，调整掩模(2)与基板(3)的间隔(s)；以及掩模/基板间隔测量机构(30)，在扫描局部曝光区域(Ep)之前，测量沿一轴方向的间隔(s)，所述曝光装置(1)根据掩模/基板间隔测量机构(30)的测量结果和扫描曝光机构(10)的扫描位置控制掩模/基板间隔调整机构(20)，使局部曝光区域(Ep)内的间隔(s)与微透镜阵列(12)的成像间隔相匹配。

主权项

一种曝光装置，通过穿透掩模的光将掩模图投影曝光于基板，其特征在于，具备：支承部，分别支承沿一轴方向厚度不均匀的所述基板和所述掩模；扫描曝光机构，使配置于所述掩模与所述基板间的微透镜阵列相对于所述基板及所述掩模进行相对移动，使所述掩模图的一部分成像于所述基板上的朝与所述一轴方向交叉的方向延伸的局部曝光区域，并沿所述一轴方向扫描所述局部曝光区域；掩模/基板间隔调整机构，使支承所述掩模的所述支承部向与所述一轴方向正交的方向移动来调整所述掩模与所述基板的间隔；以及掩模/基板间隔测量机构，在扫描所述局部曝光区域之前，逐次测量沿所述一轴方向的所述间隔，所述曝光装置根据所述掩模/基板间隔测量机构的测量结果和所述扫描曝光机构的扫描位置控制所述掩模/基板间隔调整机构，使所述局部曝光区域内的所述间隔与设定间隔相匹配。