[发明专利]研磨装置有效
| 申请号： | 201480028012.3 | 申请日： | 2014-05-14 |
| 公开（公告）号： | CN105228750B | 公开（公告）日： | 2018-06-01 |
| 发明（设计）人： | 林登·大卫·罗普尔 | 申请（专利权）人： | JTG合伙私人有限公司 |
| 主分类号： | B02C2/04 | 分类号： | B02C2/04;B02C25/00 |
| 代理公司： | 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 11204 | 代理人： | 王达佐;王艳春 |
| 地址： | 澳大利亚南*** | 国省代码： | 澳大利亚;AU |
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| 摘要： | 研磨装置(100)包括容器(110)、研磨元件(120)和驱动装置。容器(110)具有限定容器腔体(112)的容器内壁(111)。容器内壁(111)为绕垂直延伸容器轴线(A)的中心延伸的旋转曲面的通常形式。容器(110)可绕容器轴线(A)旋转。研磨元件(120)具有研磨元件外壁(121)，所述元件外壁(121)为绕垂直延伸研磨元件轴线(B)的中心延伸的旋转曲面的通常形式。研磨元件轴线(B)大体上平行于容器轴线(A)，且从所述容器轴线(A)以偏移距离(D)偏移。容器内壁(111)和研磨元件外壁(121)共同限定容器腔体(112)内的研磨室(116)。研磨室(116)具有大体上环形的截面。驱动装置适应于绕粉碎元件轴线(B)旋转驱动研磨元件(120)和/或绕容器轴线(A)旋转驱动容器(110)。偏移距离(D)可选择性调节。 | ||
| 搜索关键词： | 研磨元件 容器轴线 容器内壁 偏移距离 驱动装置 容器腔体 通常形式 旋转驱动 研磨装置 中心延伸 研磨室 外壁 选择性调节 粉碎元件 元件外壁 偏移 平行 | ||
【主权项】：
1.一种研磨装置包括：容器，具有限定容器腔体的容器内壁，所述容器内壁为绕垂直延伸容器轴线的中心延伸的旋转表面的通常形式，所述容器能够绕所述容器轴线旋转；研磨元件，具有研磨元件外壁，所述研磨元件外壁为绕垂直延伸研磨元件轴线的中心延伸的旋转表面的通常形式，所述研磨元件轴线大体上平行于所述容器轴线，且从所述容器轴线以偏移距离偏移，所述容器内壁和所述研磨元件外壁共同限定所述容器腔体内的研磨室，所述研磨室具有大体上环形的横截面；以及驱动装置，适应于绕所述研磨元件轴线旋转驱动所述研磨元件和/或绕所述容器轴线旋转驱动所述容器；其中所述偏移距离能够选择性调整；以及其中，所述研磨元件包括限定所述研磨元件外壁的研磨元件头部以及可旋转地安装在偏心装置内的研磨元件轴，所述偏心装置配置成能够选择性移动所述研磨元件轴线以调整所述偏移距离。
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