[发明专利]红外屏蔽膜的制造方法在审
| 申请号： | 201480028070.6 | 申请日： | 2014-05-12 |
| 公开（公告）号： | CN105228755A | 公开（公告）日： | 2016-01-06 |
| 发明（设计）人： | 坂田和彦;斋藤笃志 | 申请（专利权）人： | 柯尼卡美能达株式会社 |
| 主分类号： | B05D1/26 | 分类号： | B05D1/26;B05D1/34;B05D7/00;B05C5/00 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 苗堃;赵曦 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明的目的在于提供涂布面几乎不产生或者完全不产生不均、具有良好外观的红外屏蔽膜的制造方法。本发明的红外屏蔽膜的制造方法包括在连续行进的基材膜上使用滑斗涂布装置将高折射率层用涂布液和低折射率层用涂布液同时复层涂布10层～40层的工序，上述高折射率层用涂布液和上述低折射率层用涂布液在40℃的粘度为5～200mPa·s，上述滑斗型涂布装置的滑动面相对于水平面的角度为2～15°，上述滑斗型涂布装置的每一个挡料块的厚度为15～40mm。 | ||
| 搜索关键词： | 红外 屏蔽 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种红外屏蔽膜的制造方法，包括在连续行进的基材膜上使用滑斗涂布装置将高折射率层用涂布液和低折射率层用涂布液同时复层涂布10层～40层的层的工序，所述高折射率层用涂布液和所述低折射率层用涂布液在40℃的粘度为5～200mPa·s，所述滑斗型涂布装置的滑动面相对于水平面的角度为2～15°，所述滑斗型涂布装置的每一个挡料块的厚度为15～40mm。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于柯尼卡美能达株式会社，未经柯尼卡美能达株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201480028070.6/，转载请声明来源钻瓜专利网。
