[发明专利]透明漫射性OLED基材及制造这样的基材的方法有效

专利信息
申请号: 201480028340.3 申请日: 2014-04-29
公开(公告)号: CN105189384B 公开(公告)日: 2019-04-30
发明(设计)人: G.勒康;V.索维内;李荣盛 申请(专利权)人: 法国圣戈班玻璃厂
主分类号: C03C3/066 分类号: C03C3/066;C03C8/02;C03C17/34
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 刘维升;李炳爱
地址: 法国*** 国省代码: 法国;FR
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摘要: 发明涉及透明漫射性OLED基材,其包含下列连续的元件或层:‑由具有介于1.45和1.65之间的折射率的矿物玻璃制成的透明平坦基材,‑包含矿物颗粒的粗糙的低折射率层,所述矿物颗粒通过低折射率搪瓷粘合到所述基材的一侧,在所述搪瓷的表面附近、所述搪瓷的表面处或自所述搪瓷的表面突出的矿物颗粒产生以介于0.15和3µm之间的算术平均偏差Ra为特征的表面粗糙度,所述矿物颗粒和搪瓷两者都具有介于1.45和1.65之间的折射率;‑由具有介于1.8和2.1之间的折射率的搪瓷制成的覆盖所述粗糙的低折射率层(b)的高折射率平坦化层。本发明还涉及制备这样的漫射性OLED基材的方法。
搜索关键词: 透明 漫射 oled 基材 制造 这样 方法
【主权项】:
1.透明漫射性OLED基材,其包含下列连续的元件或层:(a) 由具有介于1.45和1.65之间的折射率的矿物玻璃制成的透明平坦基材,(b) 包含矿物颗粒的粗糙的低折射率层,所述矿物颗粒通过低折射率搪瓷粘合到所述基材的一侧,在所述搪瓷的表面附近、所述搪瓷的表面处或自所述搪瓷的表面突出的矿物颗粒产生以介于0.15和3 µm之间的算术平均偏差Ra为特征的表面粗糙度,所述矿物颗粒和搪瓷两者都具有介于1.45和1.65之间的折射率;(c) 由具有介于1.8和2.1之间的折射率的搪瓷制成的覆盖所述粗糙的低折射率层(b)的高折射率平坦化层,其中所述低折射率搪瓷通过低折射率玻璃熔料的完全熔化获得,所述低折射率玻璃熔料具有下列组成:SiO2:10‑40 wt%,Al2O3:1‑7 wt%,B2O3:20‑50 wt%,Na2O + Li2O + K2O:5‑30 wt%,和ZnO:3‑35 wt%,并且矿物颗粒对玻璃熔料的重量比介于0.2和4之间。
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