[发明专利]摄像元件以及摄像装置有效
| 申请号： | 201480028423.2 | 申请日： | 2014-05-29 |
| 公开（公告）号： | CN105230000B | 公开（公告）日： | 2019-03-22 |
| 发明（设计）人： | 石贺健一 | 申请（专利权）人： | 株式会社尼康 |
| 主分类号： | H04N13/211 | 分类号： | H04N13/211;H04N13/207;H04N13/257;H04N13/15;H04N13/225;G03B35/08;H01L27/146 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 陈伟 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 摄像元件通过一个光学系统，对全部光束中通过相互不同区域的部分光束的被摄体像进行拍摄，其由无视差像素、第一视差像素及第二视差像素的至少3种像素分别配置有多个的像素排列构成，其中，无视差像素具有产生基准方向的视点的开口掩膜，第一视差像素具有产生与基准方向不同的第一方向的视点的开口掩膜，第二视差像素具有产生与基准方向不同的第二方向的视点的开口掩膜，第一视差像素的开口掩膜和第二视差像素的开口掩膜分别在视点变化的方向上具有比半开口大的开口面积的宽度。 | ||
| 搜索关键词： | 摄像 元件 装置 以及 图像 处理 | ||
【主权项】：
1.一种摄像元件，其通过一个光学系统，对全部光束中通过相互不同区域的部分光束的被摄体像进行拍摄，其特征在于，由无视差像素、第一视差像素及第二视差像素至少这3种像素分别配置有多个的像素排列构成，所述无视差像素具有产生基准方向的视点的开口掩膜，所述第一视差像素具有产生与基准方向不同的第一方向的视点的开口掩膜，所述第二视差像素具有产生与基准方向不同的第二方向的视点的开口掩膜，所述第一视差像素的开口掩膜和所述第二视差像素的开口掩膜分别在视点变化的方向上具有大于1/2开口且在2/3开口以下的范围的开口宽度。
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