[发明专利]易于清洁的表面及其制备方法在审
| 申请号： | 201480028448.2 | 申请日： | 2014-04-28 |
| 公开（公告）号： | CN105209179A | 公开（公告）日： | 2015-12-30 |
| 发明（设计）人： | 杰伊·S·施勒希特;P·J·汉格;杰弗里·R·詹森;保罗·D·格拉哈姆 | 申请（专利权）人： | 3M创新有限公司 |
| 主分类号： | B05D3/12 | 分类号： | B05D3/12;B05D1/40 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 牛海军 |
| 地址： | 美国明*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明公开了一种在基材上提供易于清洁的水膜涂层的方法，该方法包括：使用磨料制品来研磨基材的表面以提供具有在100nm至3500nm的范围内的表面粗糙度Ra的经研磨的表面、使可涂覆型组合物与该经研磨的表面接触、以及从该可涂覆型组合物去除水。该可涂覆型组合物包含二氧化硅纳米粒子并且具有7.5或更小的pH。本发明还公开了包括磨料制品和可涂覆型组合物的套件。 | ||
| 搜索关键词： | 易于 清洁 表面 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种在基材上提供易于清洁的水膜涂层的方法，所述方法包括以下步骤：a)使用磨料制品来研磨基材的表面的至少一部分，以提供具有在10纳米至3500纳米的范围内的表面粗糙度Ra的经研磨的表面；b)使可涂覆型组合物接触所述经研磨的表面的至少一部分，其中所述可涂覆型组合物包含二氧化硅粒子，并且其中所述二氧化硅粒子具有100nm或更小的平均粒度；以及c)至少部分地从所述可涂覆型组合物去除水，以在所述基材上提供所述易于清洁的水膜涂层。
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