[发明专利]防垢组合物及其用途有效
| 申请号： | 201480028623.8 | 申请日： | 2014-05-20 |
| 公开（公告）号： | CN105229225B | 公开（公告）日： | 2017-05-03 |
| 发明（设计）人： | S·普波宁;乔纳斯·科恩 | 申请（专利权）人： | 凯米罗总公司 |
| 主分类号： | D21C9/08 | 分类号： | D21C9/08;D21H17/10;D21H17/43;D21H17/66;D21H21/02 |
| 代理公司： | 隆天知识产权代理有限公司72003 | 代理人： | 张福根,吴小瑛 |
| 地址： | 芬兰赫*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及用于减少草酸钙结垢的液体防垢组合物。该组合物包含具有多个阴离子基团的聚阴离子防垢剂，所述防垢剂选自聚磷酸盐或酯、包含至少一个羧基的聚合物以及其任意混合物。所述防垢组合物还包含镁离子。本发明还涉及防垢组合物用于抑制和/或减少纸浆和造纸工业中的草酸钙结垢的用途。 | ||
| 搜索关键词： | 组合 及其 用途 | ||
【主权项】：
一种用于减少草酸钙结垢的液体防垢组合物，所述液体防垢组合物包含具有多个阴离子基团的聚阴离子防垢剂，所述防垢剂选自聚磷酸盐或酯、包含至少一个羧基的聚合物以及其任意混合物，其特征在于所述防垢组合物是通过混合以下物质制备的：‑聚阴离子防垢剂的溶液，所述聚阴离子防垢剂选自羧甲基菊粉；合成共聚物，所述合成共聚物包含至少一种聚合单体，所述至少一种聚合单体选自不饱和的单羧酸或二羧酸；聚天冬氨酸、聚天冬氨酸的共聚物及其盐；烯丙基磺酸盐与马来酸酐的共聚物；聚环氧琥珀酸及其盐；和‑镁离子的溶液，并且所述防垢组合物包含与所述聚阴离子防垢剂中的阴离子基团数相比过量的镁离子。
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