[发明专利]大面积单晶单层石墨烯膜及其制备方法在审
申请号: | 201480029328.4 | 申请日: | 2014-05-21 |
公开(公告)号: | CN105229196A | 公开(公告)日: | 2016-01-06 |
发明(设计)人: | 朴浩范;金翰秀;尹熙煜;朴仙美;李民镛 | 申请(专利权)人: | 汉阳大学校产学协力团 |
主分类号: | C23C16/22 | 分类号: | C23C16/22;C23C28/00;C23C16/44 |
代理公司: | 北京柏杉松知识产权代理事务所(普通合伙) 11413 | 代理人: | 王庆艳;刘继富 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | 本发明涉及:大表面积单晶单层石墨烯膜,其中,石墨烯层在衬底上或在没有衬底的情况下在仅以(111)晶面为取向的单晶金属催化剂层上形成;和用于通过金属前体的热处理和化学气相沉积制备仅以(111)晶面为取向的大表面积单晶单层石墨烯的方法。根据本发明,仅以(111)晶面为取向的单晶金属催化剂层可以在衬底上或甚至在没有衬底的情况下以箔、平板、块或管的各种形式来形成,和,通过制备其中石墨烯层在催化剂层上形成的大表面积单晶单层石墨烯,可以以批量生产的方式使高品质的大表面积石墨烯薄膜商品化,并且可以使用本发明作为透明电极材料和用于显示元件、半导体元件、分离膜、燃料电池、太阳能电池或各种类型的传感器的材料。 | ||
搜索关键词: | 大面积 单层 石墨 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种大面积单晶单层石墨烯膜,其包含:晶面取向为(111)的单晶金属催化剂层,所述单晶金属催化剂层任选地在衬底上;和在所述单晶金属催化剂层上形成的石墨烯层。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的