[发明专利]光学流体处置设备有效
| 申请号： | 201480029388.6 | 申请日： | 2014-05-05 |
| 公开（公告）号： | CN105209392A | 公开（公告）日： | 2015-12-30 |
| 发明（设计）人： | G.格雷伊;S.桑加梅斯瓦兰 | 申请（专利权）人： | 皇家飞利浦有限公司 |
| 主分类号： | C02F1/32 | 分类号： | C02F1/32 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 江鹏飞;景军平 |
| 地址： | 荷兰艾*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 光学流体处置设备至少包括提供有孔径的保持器、至少部分地位于孔径中的灯设备。孔径包括在主要流体流向上延伸于流体进口开口与流体出口开口之间的流体通道。流体通道至少部分地沿着灯设备延伸，其中灯设备具有基本上垂直于主要流体流向延伸的伸长型形状。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 流体 处置 设备 | ||
【主权项】：
一种光学流体处置设备（1），包括：‑ 保持器（7），其提供有在主要流体流向（P3）上延伸于流体进口开口（18）与流体出口开口（19）之间的孔径（10），所述孔径（10）至少是流体通道（17）的一部分，‑ 流体容器（2），其在主要流体流向上延伸，该流体容器（2）提供有至少流体进口（3）和流体出口（4），其中保持器（7）安装在流体进口（3）与流体出口（4）之间的流体容器（2）中，以及‑ 灯设备（13,13a,13b,13c），其在操作期间将UV‑辐射发射到流体通道（17）中，其中灯设备（13,13a‑c）的最大尺寸基本上垂直于孔径（10）中的主要流体流向（P3）。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于皇家飞利浦有限公司，未经皇家飞利浦有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201480029388.6/，转载请声明来源钻瓜专利网。
