[发明专利]形成为金属计算设备外壳一部分的辐射结构在审
| 申请号： | 201480029435.7 | 申请日： | 2014-05-23 |
| 公开（公告）号： | CN105556744A | 公开（公告）日： | 2016-05-04 |
| 发明（设计）人： | M·哈珀 | 申请（专利权）人： | 微软技术许可有限责任公司 |
| 主分类号： | H01Q1/22 | 分类号： | H01Q1/22;H01Q5/378;H01Q5/40;H01Q9/42;H01Q9/14;H01Q9/04 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 钱孟清 |
| 地址： | 美国华*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 金属计算设备外壳包括界定金属背面(304)的至少一部分的一个或多个金属侧面(302)。金属计算设备外壳包括辐射结构，所述辐射结构包括金属计算设备外壳的外金属表面。金属计算设备外壳基本上包封计算设备的电子器件。外金属表面是通过介电插件(308)与金属计算设备外壳的其余部分绝缘的金属板(306)，所述介电插件填充位于金属板(306)及金属计算设备外壳的其余部分之间的槽。辐射结构还包括通过电介质隔片(316)与金属板(306)隔开的陶瓷块(314)。金属板与金属计算设备外壳的其余部分绝缘并且与陶瓷块电容耦合。 | ||
| 搜索关键词： | 形成 金属 计算 设备 外壳 一部分 辐射 结构 | ||
【主权项】：
一种金属计算设备外壳，所述金属计算设备外壳包括界定金属背面的至少一部分的一个或多个金属侧面，所述金属计算设备外壳包括：包括所述金属计算设备外壳的外金属表面的辐射结构，所述金属计算设备外壳基本上包封计算设备的电子器件。
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