[发明专利]石墨烯的涂布在审
| 申请号： | 201480031387.5 | 申请日： | 2014-05-08 |
| 公开（公告）号： | CN105593166A | 公开（公告）日： | 2016-05-18 |
| 发明（设计）人： | G·F·施内德;C·德克尔 | 申请（专利权）人： | 代尔夫特工业大学 |
| 主分类号： | C01B31/04 | 分类号： | C01B31/04;C12Q1/68 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 罗菊华 |
| 地址： | 荷兰代*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明处于高度结晶的石墨烯和用层涂布所述石墨烯的领域。所述石墨烯可具有其它结构，例如纳米孔、纳米间隙和纳米带。经涂布的石墨烯可以用于生物分子分析和修饰，例如DNA测序，作为传感器等。本发明因此还涉及经涂布的石墨烯的用途。 | ||
| 搜索关键词： | 石墨 | ||
【主权项】：
形成经修饰的石墨烯表面的方法，其包括下述步骤：a)提供无缺陷石墨烯单层，b)在合适溶剂中提供包含结合基团的第一分子，b1)其中所述结合基团包含至少一个芳烃基团，优选至少两个芳烃基团，其中所述第一分子进一步包含化学活性的第一部分，c)使所述第一分子的所述至少一个芳烃基团和石墨烯相互作用，从而在石墨烯表面上形成第一分子的至少一个致密填充的(单)层，和d)使所述第一分子的化学活性的第一部分与第二分子的化学活性的第二部分反应，从而形成薄的反应产物层。
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