[发明专利]聚合物分散剂

摘要

本发明涉及梳型聚合物P形式的新聚合物分散剂，以及包含固体细粒如有机或无机颜料和填料和聚合物分散剂的液体组合物。梳型聚合物P具有基于梳型聚合物中的重复单元总量至少0.5摩尔％，例如0.5‑90摩尔％的重复单元A，所述重复单元A选自式Ia和Ib的重复单元：其中R¹选自氢、‑S(＝O)₂R^a、C₁‑C₂₀烷基、C₃‑C₁₀环烷基、芳基、杂芳基、芳基‑C₁‑C₄烷基和杂芳基‑C₁‑C₄烷基；且X表示下式X的聚合物基团，其中Z表示聚合物链段或者具有10‑100个碳原子的单价烷基或烯基；R¹如上文所定义；k为0、1、2、3或4；n为0、1或2；A为化学键或者选自C₁‑C₆亚烷基、‑O‑(C₂‑C₆亚烷基)或‑C(＝O)‑O‑(C₂‑C₆亚烷基)的二价结构部分，其中C₂‑C₆亚烷基部分连接在Q上；Q为选自‑O‑、‑NH‑和‑S‑的二价结构部分；R²独立地选自‑OH、‑COOH、‑COOCH₃、‑NH₂、‑NH(C₁‑C₆烷基)、‑N(C₁‑C₆烷基)₂、‑NO₂、‑S(＝O)₂R^a、C₁‑C₂₀烷基、C₁‑C₄烷氧基、卤素、芳氧基、芳基、杂芳基。

主权项

1.梳型聚合物P，其具有基于梳型聚合物中的重复单元总量至少0.5摩尔％的重复单元A，所述重复单元A选自式Ia和Ib的重复单元：其中：R1选自氢、‑S(＝O)2Ra、C1‑C20烷基、C3‑C10环烷基、芳基、杂芳基、芳基‑C1‑C4烷基和杂芳基‑C1‑C4烷基，其中最后提到的4个基团中的芳基和杂芳基未被取代或者被1、2、3或4个选自‑OH、‑COOH、‑COOCH3、‑NH2、‑NH(C1‑C6烷基)、‑N(C1‑C6烷基)2、‑NO2、‑S(＝O)2Ra、C1‑C4烷基、C1‑C4烷氧基和卤素的基团取代；且X表示下式X的聚合物基团：其中：Z表示聚合物链段或者具有10‑100个碳原子的单价烷基或烯基；R1如上文所定义；k为0、1、2、3或4；n为0、1或2；A为化学键或者选自C1‑C6亚烷基、‑O‑(C2‑C6亚烷基)、‑C(＝O)‑O‑(C2‑C6亚烷基)或‑C(＝O)‑NH‑(C2‑C4亚烷基)的二价结构部分，其中C2‑C6亚烷基部分连接在Q上，其中C2‑C4亚烷基部分连接在Q上；Q为选自‑O‑、‑NH‑和‑S‑的二价结构部分；R2独立地选自‑OH、‑COOH、‑COOCH3、‑NH2、‑NH(C1‑C6烷基)、‑N(C1‑C6烷基)2、‑NO2、‑S(＝O)2Ra、C1‑C20烷基、C1‑C4烷氧基、卤素、芳氧基、芳基、杂芳基，其中芳基、杂芳基和芳氧基未被取代或者被1、2、3或4个选自‑OH、‑COOH、‑COOCH3、‑NH2、‑NH(C1‑C6烷基)、‑N(C1‑C6烷基)2、‑NO2、‑S(＝O)2Ra、C1‑C4烷基、C1‑C4烷氧基和卤素的基团取代；且其中：Ra选自‑OH、‑NH2、‑NH(C1‑C6烷基)、‑N(C1‑C6烷基)2、C1‑C4烷基、C1‑C4烷氧基、芳基和杂芳基，其中芳基和杂芳基未被取代或者被1、2、3或4个选自C1‑C4烷基、C1‑C4烷氧基和卤素的基团取代。