[发明专利]具有抑制生物物质附着的能力的离子络合材料及其制造方法有效
申请号: | 201480032648.5 | 申请日: | 2014-06-09 |
公开(公告)号: | CN105308137B | 公开(公告)日: | 2021-01-01 |
发明(设计)人: | 广井佳臣;大谷彩子;岸冈高广;西野泰斗;小泽智行 | 申请(专利权)人: | 日产化学工业株式会社 |
主分类号: | C09D201/02 | 分类号: | C09D201/02;B05D5/00;B05D7/24;B32B27/00;C08F230/02;C08L43/02;C08L101/02;C09D5/16;C09D143/02 |
代理公司: | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人: | 杨宏军;牛蔚然 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: |
本发明提供具有抑制生物物质附着的能力的涂覆膜、该涂覆膜的制造方法、通过将特定的单体混合物聚合而得到的共聚物、具有特定的组成的涂覆膜形成用组合物、作为用于形成该膜的涂覆膜形成用组合物的原料使用的含有共聚物的清漆的制造方法、以及用于形成涂覆膜的溶胶。尤其是,提供通过包括以下工序的方法得到的涂覆膜:将涂覆膜形成用组合物涂布于基体的工序,以及于-200℃~200℃的温度进行干燥的工序,所述涂覆膜形成用组合物包含下述共聚物和溶剂,所述共聚物包含:包含式(a)表示的有机基团的重复单元和包含式(b)表示的有机基团的重复单元(式中,U |
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搜索关键词: | 具有 抑制 生物 物质 附着 能力 离子 络合 材料 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
涂覆膜,其是通过包括以下工序的方法得到的:将涂覆膜形成用组合物涂布于基体的工序,以及于-200℃~200℃的温度进行干燥的工序,所述涂覆膜形成用组合物包含下述共聚物和溶剂,所述共聚物包含:包含下述式(a)表示的有机基团的重复单元和包含下述式(b)表示的有机基团的重复单元,式中,Ua1、Ua2、Ub1、Ub2及Ub3各自独立地表示氢原子、或碳原子数1~5的直链或支链烷基,An-表示选自卤化物离子、无机酸根离子、氢氧化物离子及异硫氰酸根离子中的阴离子。
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