[发明专利]用于边缘关键尺寸均匀性控制的工艺套件

摘要

提供可调谐环组件、具有可调谐环组件的等离子体处理腔室以及用于调谐等离子体工艺的方法。在一个实施例中，可调谐环组件包含外陶瓷环所述外陶瓷环具有被暴露的顶表面和底表面；以及内硅环，所述内硅环经配置以与所述外陶瓷环配合以限定重叠区域，内硅环具有内表面、顶表面以及形成在内表面与顶表面之间的槽口，内表面限定环组件的内径，槽口的尺寸被设置为接受基板的边缘，内硅环的顶表面的外侧部经配置以在重叠区域中接触外陶瓷环的底表面的内侧部，并且位于外陶瓷环的底表面的内侧部下方。

主权项

一种环组件，包括：外陶瓷环，所述外陶瓷环具有被暴露的顶表面和底表面；以及内硅环，所述内硅环经配置以与所述外陶瓷环配合以限定重叠区域，所述内硅环具有：内表面，顶表面，以及形成在所述内硅环的所述内表面与所述顶表面之间的槽口，所述内表面限定所述环组件的内径，所述槽口的尺寸被设置为接受基板的边缘，所述内硅环的外侧部的外侧顶表面，所述外侧顶表面经配置以在所述重叠区域中接触所述外陶瓷环的所述底表面的内侧部，并且位于所述外陶瓷环的所述底表面的内侧部下方，其中，所述内硅环的所述顶表面包含斜表面，所述斜表面从所述重叠区域径向地向内且向上成角度。